HALO系列“二合一”PECVD

产品特点 1.石墨舟电极技术：前电极面接触，可定期更换清洗电极块，尾电极炉管外可调，加大电极尺寸及优化电极材料，良好解决高频报警问题；
2.快速降温炉体：采用最新专利技术，使炉体温度可以快速降到所需温度，降温速率提升25%以上，明显提升炉管内温度均匀性；
3.专利储舟位并行散热方式：提升降温效果，缩短降温时间15%以上，同时避开底部从操作台前面进气，提高操作台内部洁净度；
4.石英管辅助吊装工具，大大降低安装和维修更换石英管的难度；
5.膜的致密性高于间接等离子体；
6.比ALD有更好的钝化效果。

了解更多

产品应用

项目	技术指标
成膜种类	AlO,SiO,SiON,SiN,SiC
装片量	768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm)
氧化铝膜厚均匀性	片内≤6%片间≤6%批间≤5%(182片)
氧化铝折射率	1.65(±0.05)
UP-TIME	≥98%
工作温度范围	100~600℃
温度控制	9点控温，内外双模控制
升温方式	自动斜率升温及快速恒温功能
降温方式	最新专利技术，9温区分段控制主动降温炉体
恒温区精度及长度	±2°C/3200mm(500°C)
单点温度稳定度	<±1°C/4h(500°C)
升温时间	RT→450℃≤45min
温度控制	双模精确控制
系统极限真空度	<3Pa
系统漏气率	停泵关阀后压力升率<1Pa/min
压力控制方式	快速调整全自动闭环
工艺控制方式	工艺过程全自动控制，多重安全连锁报警
人机交互界面	LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、班组管理、组网功能
MES/CCRM	具有

产品参数

适用于高效晶体硅PERC电池工艺过程中生长致密的氧化铝等背钝化薄膜材料，具有多种复合膜连续生长的特点。

返回上一级，查看更多