客服热线:
400-666-4000
[→] 立即咨询
关闭 [x]
SiC激光退火设备

SiC激光退火设备

产品特点 1.整机模块化设计与集成,兼容4、6、8英寸薄片晶圆;
2.集成自研成熟先进激光整形技术,光斑能量高度均匀、稳定;
3.退火后表面均匀、平整,优秀的电学特性及表面形貌特征表现;
4.严格控制腔体含氧量,有效控制表面碳析出量和分布;
5.配置监控与补偿系统,监测光学能量稳定性和非退火面温度;
6.配备EFEM传输系统,整机符合SEMI标准,支持SECS-GEM通信。

产品应用

适用于对重掺杂碳化硅(SiC)表面沉积的过渡金属进行退火,形成良好的欧姆接触。


  • 大族激光官网
  • 大族激光官网
  • 大族激光官网
展开更多 +

产品参数

可加工品圆尺寸
4inch、6inch、8inch
薄片退火支持
光斑整形平顶光
光斑均匀性>95%
能量稳定性≤1%
比电阻接触率≤5×10^(-5)Ω.cm²
表面温度Amnealedgurtece>1500℃.NOn=ann日ledsurlaco<100℃
腔体含氧量N2/Ar: 99.99%,<100ppm@25s
运动平台精度

直线度:±1μm

重复定位精度:±1μm

品圆传输

Automatic transferring

(compatible to wafer or wafer/w carrier)


[图标] 联系我们
服务热线
服务热线:
400-666-4000
在线沟通
在线沟通:
立即咨询
查看更多联系、反馈方式
[↑]
打样申请/技术支持
[x]
*
*
*
咨询产品
验证码
标有 * 的字段为必填,收到后我们将在2个工作日与您联系
申请打样
[x]
*
*
*
*
*
标有 * 的字段为必填
*
激光加工类型(多选)
*
材料类型(多选)
验证码
标有 * 的字段为必填,收到后我们将在2个工作日与您联系